盛美上海(688082)2025年中報點評:2025H1業(yè)績延續(xù)高增 平臺化布局加速
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2025年08月10日 00:30 3
admin
公司業(yè)績穩(wěn)健增長,25H1 歸母凈利潤同比+57%: 2025H1 公司實現(xiàn)營收32.7 億元,同比+35.8%,主要系公司受益于中國半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備需求持續(xù)旺盛,并在新客戶拓展和新市場開發(fā)方面取得了顯著成效。期間公司實現(xiàn)歸母凈利潤7.0 億元,同比+57.0%;扣非凈利潤為6.7 億元,同比+55.2%。Q2 單季營收為19.6 億元,同比+32.2%,環(huán)比+50.1%;歸母凈利潤為4.5 億元,同比+23.8%,環(huán)比+82.5%?! 」居芰ο鄬Ψ€(wěn)定,控費能力強勁: 2025H1 公司毛利率為50.7%,同比+0.1pct;銷售凈利率為21.3%,同比+2.9pct。期間費用率為24.4%,同比-5.7pct,其中銷售費用率為8.2%,同比-1.7pct,管理費用率為4.2%,同比-2.3pct,研發(fā)費用率為12.7%,同比-1.7pct,財務(wù)費用率為-0.7%,同比-0.1pct。Q2 單季毛利率為50.6%,同環(huán)比-2.8pct/-0.2pct;銷售凈利率為22.9%,同環(huán)比-1.6pct/+4.1pct?! 〗刂罳2 末公司合同負債為8.6 億元:截至2025Q2 末公司合同負債為8.6 億元,同比-17.3%;存貨為43.9 億元,同比+0.1%。Q2 公司經(jīng)營性現(xiàn)金流為-2.25 億元,同比轉(zhuǎn)負,主要系設(shè)備回款具備一定周期性,本期回款放緩&公司規(guī)模擴大帶來的員工薪酬增加?! ∑脚_化布局清洗、電鍍、涂膠顯影等設(shè)備,有望充分受益于HBM 新增清洗、電鍍需求:公司堅持推行“技術(shù)差異化”和“產(chǎn)品平臺化”的戰(zhàn)略方針,成功布局清洗、電鍍、涂膠顯影、立式爐管、PECVD 以及化合物半導(dǎo)體刻蝕等多種設(shè)備。(1)清洗設(shè)備:公司單片清洗設(shè)備國內(nèi)市占率超30%,其SAPS、TEBO 兆聲清洗技術(shù)以及Tahoe 高溫硫酸清洗技術(shù)均已達到國際領(lǐng)先水平,用于下一代半導(dǎo)體器件的單晶圓高溫SPM設(shè)備已成功通過關(guān)鍵客戶驗證。(2)電鍍設(shè)備:截至25Q2 末,公司已交付超1500 個電鍍腔,其三維堆疊電鍍設(shè)備能夠處理3D TSV 及2.5DInterposer 的高深寬比銅電鍍;前道大馬士革銅互連電鍍設(shè)備則適用于3D 結(jié)構(gòu)的FinFET、DRAM 和3D NAND 所需工藝;后道電鍍設(shè)備則能滿足Pillar Bump、RDL、HD Fan-Out 和 TSV 中的銅、鎳、錫、銀、金等電鍍工藝。(3)立式爐管設(shè)備:LPCVD 已通過多家FAB 驗證并量產(chǎn),ALD 陸續(xù)進入客戶端驗證。(4)涂膠顯影設(shè)備:公司的Ultra Lith 涂膠顯影設(shè)備支持包括i-line、KrF 和ArF 系統(tǒng)在內(nèi)的各種光刻工藝,目前正在客戶端進行驗證。(5)PECVD 設(shè)備:已在客戶端驗證TEOS 及SiN工藝。(6)無應(yīng)力CMP、刻蝕設(shè)備,有望陸續(xù)導(dǎo)入客戶端驗證?! ∮A(yù)測與投資評級:公司主業(yè)持續(xù)增長+產(chǎn)品品類不斷拓展,我們維持2025-2027 年歸母凈利潤為15.5/18.7/20.7 億元,當(dāng)前股價對應(yīng)動態(tài)PE 分別為33/27/24 倍,維持“增持”評級?! ★L(fēng)險提示:下游擴產(chǎn)不及預(yù)期,研發(fā)進展不及預(yù)期。 【免責(zé)聲明】本文僅代表第三方觀點,不代表和訊網(wǎng)立場。投資者據(jù)此操作,風(fēng)險請自擔(dān)。
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